|
검찰은 삼성전자 자회사인 반도체 장비업체 B사의 D램 반도체 세정 장비 관련 기술을 취득해 중국 수출용 반도체 장비 개발에 사용한 A사 임직원 및 하청업체 대표 3명도 산업기술보호법위반혐의 등으로 구속기소했다.
아울러 위 범행에 가담한 A사 임원 및 B사 전직 직원 등 12명도 동일한 혐의로 불구속기소했다.
검찰에 따르면 A사 임직원 등은 지난 2018년 8월부터 지난해 6월까지 SK하이닉스의 HKMG(High-K Metal Gate) 반도체 제조 기술과 반도체 세정 레시피 등을 취득했다. A사는 이를 중국의 반도체 경쟁업체와 중국 반도체 컨설팅 업체에 누설한 것으로 조사됐다.
아울러 이들은 지난 2017년 3월부터 지난해 8월까지 삼성전자와 자회사 B사의 전직 직원 등으로부터 초임계세정 장비 도면과 매뉴얼 등을 몰래 취득해 중국 수출용 반도체 세정 장비 개발에 사용한 것으로 드러났다.
HKMG 반도체 제조 기술과 반도체 세정 레시피 정보, 수출용 장비 개발에 사용된 초임계 세정 장비 제작 기술 등은 10나노급 D램 반도체 제조 공정의 핵심 기술이다.
검찰은 국가정보원 산하 산업기밀보호센터로부터 국내 반도체 관련 핵심 기술이 중국 반도체 업체에 유출된 정황이 있다는 정보를 제공 받아 수사에 착수했다.
검찰 관계자는 “향후 기술 유출 사건 등 전문 분야 수사 역량을 지속적으로 강화해 반도체 제조업 등 대한민국 기간산업의 국가핵심기술·첨단기술의 국외 유출 사범에 대해 엄정 대응하겠다”고 밝혔다.
|
