박홍준 포스텍 교수·김선정 삼성전자 상무, 올해 강대원상 수상

[이데일리 박원주 기자] 한국반도체학술대회 상임운영위원회는 2026년 강대원상 수상자로 회로·시스템 분야에 박홍준 포스텍 교수를, 소자·공정 분야에 김선정 삼성전자(005930) 상무를 각각 선정했다고 28일 밝혔다. 시상식은 이날 강원도 하이원그랜드호텔에서 열리는 ‘제33회 한국반도체학술대회’ 개막식에서 진행된다.

박홍준 포스텍 교수.(사진=한국반도체산업협회)

강대원상은 세계 최초로 모스펫(MOSFET)를 개발해 반도체 기술발전에 기여한 강대원 박사를 기리기 위해 제정됐다. 2017년부터 강 박사를 이을 인재를 발굴해 상을 수여하고 있다.

박 교수는 지난 30여 년간 아날로그 집적회로 분야, 특히 메모리 분야의 고속 칩 간 인터페이스 회로 분야에서 연구를 선도해 온 세계적 석학이다. 한국반도체산업협회는 “박 교수의 연구는 고속 데이터 통신, 저전력 설계, 위상 동기화 회로 등 다양한 영역에서 근본적인 설계 원리를 제시했다”며 “이론적 완성도와 실용적 유용성을 동시에 갖춘 독창적인 성과로 평가받고 있다”고 설명했다.

이어 “고속 데이터 전송이 가능하도록 메모리 인터페이스 분야에서 신호 손실을 보상하는 등화 기술을 세계 최초로 제안했다”고 덧붙였다. 아울러 박 교수가 개발한 고속 인터페이스 회로 기술은 삼성전자와 SK하이닉스(000660) 등이 기술 경쟁력을 확보하는 데 중요한 토대를 제공했다는 평가다.

김선정 삼성전자 상무.(사진=한국반도체산업협회)

김 상무는 반도체 트랜지스터 공정 및 물질과학 분야의 연구 역량을 기반으로 국제 학계에서 높은 성과를 거뒀다는 평가다. 반도체산업협회는 “(그는) High-K 유전막 기반 소자 공정 연구로 2005년 VLSI 심포지엄에서 최고 학생 논문(Best student paper)을 수상하며, 차세대 게이트 스택 기술의 가능성을 제시한 바 있다”며 “이후 국제전기전자공학회(IEEE) 전자소자학회 대학원생 펠로우십을 수상할 만큼 학문적 탁월성을 인정받았다”고 설명했다. 아울러 국내 첨단 파운드리 기술분야에서 활용되는 2나노 게이트올어라운드(GAA) 공정 개발을 주도해 차세대 선단 공정의 기술 완성도와 신뢰성을 높이는 등 기여도가 컸다는 분석이다.