홍장원 변리사회 회장 "특허비용 특례 도입…장식용 막아야"

24일 국회 의원회관에서 열린 ‘고품질 특허 창출 방안 토론회’에서 발표자 및 토론자들이 의견을 나누고 있다. 사진=대한변리사회 제공

[이데일리 박진환 기자] 국내 연구개발(R&D) 성과물의 기술이전 및 활용율을 높이기 위해서는 고품질의 특허 창출이 시급하다는 주장이 제기됐다.

홍장원 대한변리사회 회장은 지난 24일 국회 의원회관에서 열린 ‘정부 R&D 예산 27조원 시대, 고품질 특허 창출 방안 토론회’에서 주제발표를 통해 “R&D 예산의 효율적 집행을 위해서는 결과물인 특허에 대한 품질 제고와 이를 위한 법제도 정비가 시급하다”고 밝혔다.

홍 회장은 “우리나라는 세계 1위의 GDP대비 R&D 투자국임에도 불구하고, R&D의 결과인 기술이전을 통한 수입은 매우 저조한, 이른바 ‘코리아 R&D 패러독스’에서 벗어나지 못하고 있다”고 지적했다.

그러면서 “이를 극복하기 위해서는 R&D의 성과인 특허의 고품질화가 시급하며, 이를 위해 특허출원의 선택과 집중을 통해 중복 투자를 피하고 특허비용에 관한 특례 도입으로 저품질의 장식용 특허 양산을 막아야 한다”며 “질적 특허평가시스템을 도입해 양적 성과 위주에서 질적 성과로 체질 개선을 유도해야 한다”고 강조했다

이어 정성창 지식재산과 혁신생태계 연구소장은 ‘R&D 기술이전 및 활용율 제고 방안’이라는 주제발표를 통해 △연구개발 시 특허정보 활용△대학 직무발명 보상△특허비용의 적정 기준 마련△기술이전 제도 개선△기술이전 전담 조직의 전문 인재 육성 등을 개선 과제로 제시했다.

대한변리사회 주관으로 열린 이날 토론회는 이원욱 국회 과학기술정보방송통신위원회 위원장과 한준호 의원, 산업통상자원중소벤처기업위원회 소속 김성환·이동주 의원 등 국회의원 4명이 공동주최했다.