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니혼게이자이(닛케이)신문은 5일 캐논이 내년에 일본 도치기현(혼슈)에서 반도체 노광장비 생산을 위한 신규 공장을 착공할 것이라고 보도했다. 공장 설립에는 총 500억엔이 투입될 예정이며, 가동은 2025년 봄을 목표로 하고 있다. 캐논은 현재 일본 내 우쓰노미야 사업소와 아미 사업소 두 곳에서 노광장비를 생산하고 있다. 이 중 우쓰노미야 사업소 내 공터에 신규 공장을 짓겠다는 계획이다.
반도체 핵심 공정인 회로형성에 사용되는 노광장비는 반도체를 만들 때 빛으로 웨이퍼에 회로를 새기는데 필요한 장비다. 반도체 노광장비 제조업계에서 캐논의 점유율은 30%로 네덜란드 ASML(60%)에 이어 2위를 차지하고 있다.
캐논이 공장을 신설하는 것은 21년 만이다. 최근 한국 삼성, 미국 인텔, 대만 TSMC 등 반도체 제조업체들이 잇따라 공장을 신·증설하면서 장비 수요가 확대할 것에 대비하기 위한 조처다. 캐논은 반도체 노광장비 수요가 전년대비 29% 증가해 총 180대를 판매할 것으로 전망하고 있다. 이는 최근 10년래 4배 성장한 규모라고 닛케이는 설명했다.
아울러 세계 반도체 시장 규모는 지난해 사상 처음으로 5000억달러(약 709조원)를 넘어섰다. 업계에선 오는 2030년엔 시장 규모가 1조달러로 2배 성장할 것으로 보고 있다.
캐논은 공장 신설과 더불어 저비용으로 첨단 미세 회로를 형성할 수 있는 차세대 장비와 기술 개발도 함께 진행하겠다는 복안이다. 현재 최첨단 반도체 제작에 필수인 극자외선(EUV) 노광공정 기술은 ASML이 독점하고 있기 때문이다.
캐논이 집중하고 있는 기술은 ‘나노임프린트’다. 차세대 반도체나 디스플레이 등에 나노급 회로를 새겨 넣기 위해 나노패턴이 새겨진 일종의 도장(스탬프)을 웨이퍼나 플렉서블한 필름 위에 찍어내는 방식이다. 기존보다 노광공정이 단순해 비용을 절감할 수 있다. 기술 개발은 캐논이 주도하며 키옥시아와 대일본인쇄도 참여한다.
닛케이는 “한국과 미국, 대만 등 전 세계적으로 반도체 공장 신설 투자가 과열되고 있는 가운데, 일본에서도 반도체 산업 기술혁신을 바라본 투자가 본격화하고 있다”며 “캐논은 ASML의 아성을 무너트리는 것을 목표로 하고 있다. 나노임프린트 기술이 상용화하면 EUV 공정 대비 제조비용을 최대 40%, 소비전력은 최대 90%까지 줄일 수 있을 것”이라고 전했다.
