ASML 수입 막히자...中, 28나노 노광장비 자체 개발

[이데일리 김겨레 기자] 중국이 올해 말 자체 기술로 개발한 28나노미터(㎚·1나노미터=10억분의 1m) 노광(리소그래피) 장비를 출시할 것이라고 중국 언론이 보도했다.

(사진=AFP)

3일 홍콩 사우스차이나모닝포스트(SCMP)는 중국 증권일보 보도를 인용해 국영 기업인 상하이마이크로전자(SMEE)가 28나노 심자외선(DUV) 리소그래피 장비 SSA/800-10W를 연말까지 반도체 제조사에 납품할 수 있을 것이라고 전했다.

SMEE의 28나노 DUV 장비 출시는 중국의 네덜란드 ASML의 장비 수입이 불투명해진 상황에서 이뤄졌다. 중국은 ASML로부터 10나노 이하 최첨단 장비인 극자외선(EUV) 장비를 수입할 수 없게 되자 상대적으로 구형 모델인 DUV 장비만 수입하고 있었는데, 오는 9월부터 이마저도 어려워질 전망이다. 미국 주도의 대중 반도체 규제에 동참한 네덜란드 정부는 자국의 반도체 장비업체들이 반도체 장비를 선적할 때 정부의 수출 허가를 받도록 하는 조치를 시행할 예정이다.

SMEE가 28나노 DUV 장비 생산에 성공하면 성숙 공정 상당 부분을 수입산 장비에 의존하던 중국 반도체 업계의 상당한 국산화 효과가 예상된다. SMEE가 개발 중인 장비는 중국이 ASML에서 수입하던 구형 DUV 장비와 유사한 수준인 것으로 알려졌다. 다만 ASML의 최첨단 EUV 장비와 SMEE의 기술 격차는 10년 이상으로 평가된다.

2002년에 설립된 SMEE는 중국 최대 노광장비 제조업체로, 2009년 중국 최초로 저성능 노광 장비를 개발했다. 2018년에는 90㎚ 장비를 출시했으며 2016년부터 중국 국가정책과제의 일환으로 28㎚ 노광장비 개발에 몰두해왔다. 지난해 미 상무부는 중국군 현대화를 위해 미국 원천기술을 확보했거나 확보를 시도했다는 이유로 SMEE를 블랙리스트에 올린 바 있다.

SCMP는 “SMEE는 첨단 반도체 제조 장비 생산에 있어서 중국의 희망으로 떠올랐다”고 전했다. 베이징의 반도체 산업 분석가 장 훙은 중국 관영 글로벌타임스(GT)에 “(28나노 DUV 장비 출시는)업계에 큰 돌파구가 될 것이며 이를 활용해 중국은 범용 기기의 요구 사항을 충족하는 반도체 칩을 자체 생산할 수 있을 것”이라고 전망했다.