국가핵심기술 해외유출 차단 공로 인정받았다

[대전=이데일리 박진환 기자] 특허청은 기술디자인특별사법경찰이 국정원과 공조해 국가핵심기술 해외유출을 차단, 국가 기술안보에 기여한 공로로 대통령표창을 수상했다고 26일 밝혔다. 기술경찰은 지난해 국정원 산업기밀보호센터로부터 중국 업체로 이직한 국내 중견기업 연구원 2명에 대한 첩보를 받아 수사에 착수했다. 이후 중국에 체류했던 연구원들이 일시 귀국하자 공항에서부터 추적하는 등의 방법으로 신속하게 증거를 확보했다. 이 과정에서 반도체 웨이퍼 연마에 관한 국가핵심기술의 무단유출 증거를 다량 확보했고, 디지털 포렌식 증거 분석을 통해 국내 반도체 대기업 전·현직원, 브로커 등 추가 공범 4명이 연루된 사실도 밝혀냈다. 또 이들을 전원 출국금지 조치시켜 중국 업체로 복귀하는 것을 막았다. 9개월여의 수사 끝에 반도체 국가핵심기술의 중국 유출을 도모한 3개사의 전·현직원 6명을 기소하고, 주범 3명은 올해 1월 사전구속됐다.

이는 특허청이 국가핵심기술 유출을 차단한 첫 사례이자, 사전구속영장을 신청해 구속기소한 최초 사례이다. 또 이들이 중국에서 본격적인 사업을 진행하기 전에 구속, 추가적인 기술유출 및 1000억원 이상의 경제적 피해를 차단할 수 있었다. 기술경찰은 내년부터 실용신안권 침해, 데이터 기술적보호조치 무력화 행위, 영업비밀침해 전반 예비음모죄까지 수사범위를 확장해 기술침해·유출 범죄 수사의 사각지대를 좁혀나갈 예정이다. 이인실 특허청장은 “기술보호라는 국가적 현안에 대처하기 위한 특허청의 노력을 인정받았다는 점에서 이번 수상의 의미가 크다”면서 “앞으로도 특허청은 수사역량을 강화해 우리 기업과 국민이 노력해 일궈낸 핵심기술을 지켜내는데 앞장서겠다”고 강조했다. 한편 특허청 기술경찰은 국가 핵심기술의 해외유출을 막고 특허권·영업비밀·디자인권 침해·유출 범죄 수사를 위해 2019년 3월 출범했다. 이어 2021년 7월 기술범죄수사 전담조직인 기술경찰과로 확대·개편한 이래 양·질적 성장을 거듭하고 있다.